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真空等離子清洗機(jī)處理效果更為精密全面

更新時(shí)間:2019-10-21點(diǎn)擊次數(shù):2101
  等離子針對(duì)不同的用途有著多種分類,大氣等離子清洗機(jī)和真空等離子清洗機(jī)是市面上常見(jiàn)的兩種清洗機(jī)類型,那么它們的區(qū)別主要體現(xiàn)在哪里呢?
  大氣等離子清洗機(jī),如今應(yīng)用多的就是手機(jī)行業(yè):手機(jī)玻璃表面活化處理,底板點(diǎn)膠前處理,封裝前端處理,手機(jī)殼表面噴漆前活化處理等等。一般的手機(jī)工廠每日幾千到幾萬(wàn)的產(chǎn)能,就必須要有快速的活化處理工藝,大氣等離子清洗機(jī)就是為此而生的。無(wú)論配合在三軸平臺(tái),傳輸機(jī)還是裝在整條流水線上,大氣等離子清洗機(jī)都能快速使被處理材料其中一個(gè)表面達(dá)到很好的活化效果。而真空等離子設(shè)備它是以其高性能,高質(zhì)量,還有過(guò)硬的品質(zhì),以及安全的產(chǎn)品為特點(diǎn),處理效果比較精密全面,很多的產(chǎn)品它本身的材質(zhì)問(wèn)題,所以不能使用像大氣等離子設(shè)備那樣的溫度相對(duì)來(lái)說(shuō)比較高一點(diǎn)的等離子設(shè)備,這樣的時(shí)候可以選擇真空等離子設(shè)備。
  大氣等離子清洗機(jī)與真空等離子清洗機(jī)的詳細(xì)區(qū)別如下:
  一、由于常壓等離子的噴嘴中是直噴出的離子,這種情況由噴嘴的結(jié)構(gòu)間接的改變了離子的運(yùn)動(dòng)方向(直接面對(duì)被處理材料)。從而使大氣等離子在流水線上只能處理一個(gè)表面,這也是與真空等離子清洗大的區(qū)別之一。真空等離子清洗機(jī)在工作中,腔體內(nèi)部的離子是不定向的,只要材料在腔體裸露出的部分,不管是哪個(gè)面哪個(gè)角落都可以清洗得到。
  二、在使用氣體方面,大氣型等離子工作時(shí)只需要接入壓縮空氣,當(dāng)然想效果更好直接接入氮?dú)?。而真空型等離子清洗機(jī)在氣體上會(huì)有更多的選擇,并且可以選擇多種氣體進(jìn)行匹配對(duì)材料表面氧化物、納米級(jí)別微生物的去除有著*的改善。在這里要強(qiáng)調(diào)的是:大氣型通入氣體的目的主要是為了活化,侵潤(rùn)性增強(qiáng)。而真空型通入氣體的目的是為了增強(qiáng)蝕刻效果,去除污染物,去除有機(jī)物,侵潤(rùn)性增強(qiáng)等。顯然氣體的選擇范圍更廣,真空等離子清洗的工藝會(huì)應(yīng)用得更為廣泛。
 

真空等離子清洗機(jī)

  三、溫度。大氣等離子清洗機(jī)雖然處理材料幾秒之后的溫度在60°-75°左右,但這個(gè)數(shù)據(jù)是按照噴槍距離材料15mm,功率在500W,配合在三軸速度為120mm/s來(lái)測(cè)的。當(dāng)然功率,接觸時(shí)間,處理的高度都會(huì)對(duì)溫度有所影響。特別注意的是:大氣等離子清洗機(jī)噴槍工作時(shí)的噴出的“火焰”分為內(nèi)焰和外焰,我們清洗時(shí)都是拿外焰去洗,內(nèi)焰在噴嘴里面,從外面是看不到的。但是如果在噴出“火焰”的情況下長(zhǎng)時(shí)間對(duì)著某一個(gè)點(diǎn)不運(yùn)動(dòng)進(jìn)行處理很容易對(duì)表面產(chǎn)生灼燒。所以大氣等離子的溫度要在實(shí)際工況下才能測(cè)得具體數(shù)值。
  而真空型等離子清洗機(jī)就沒(méi)那么復(fù)雜,按電源頻率劃分,40KHz和13.56MHz為例:通常情況下材料放入腔體內(nèi)工作,頻率為40KHz一般溫度為65°以下,再者機(jī)器內(nèi)部裝有強(qiáng)冷風(fēng)扇,處理時(shí)間不長(zhǎng)的話,材料表面溫度都會(huì)跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會(huì)更低,通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發(fā)生形變的材料,低溫真空型等離子清洗機(jī)的是在再適合不過(guò)了。
  四、離子產(chǎn)生條件,這個(gè)比較直觀的就可以看出,大氣型依賴接入氣體,氣體壓力要達(dá)到0.2mpa左右才可以產(chǎn)生離子。而真空型則依賴于真空泵,產(chǎn)生離子之前,即使不接入任何外接氣體,要將腔體內(nèi)部的真空度抽到25pa以下才能產(chǎn)生離子。
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